大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于科技研究项目推进情况的问题，于是小编就整理了1个相关介绍科技研究项目推进情况的解答，让我们一起看看吧。
上海微电子已经成功生产光刻机了么？这个领域国内是什么水平？
谢谢邀请，上海微电子生产出国产第一台光刻机已经是十几年前的事了，只是因为美国限制我们国家的大规模集成电路（高端芯片）的发展和荷兰ASML的最先进光刻机对我们不开放及华为的成长受阻等各种因素发酵，把我们国家先进光刻机的问题推上了风口浪尖。
其实不仅是先进的光刻机（极紫外），我们国家因为工业化比较晚，所有现代工业技术基本都落后西方（美国德国法国英国日本），光刻机只是典型代表。
但现代工业技术也不是高不可攀，就是钱的事，随着我国经济的发展，钱已经不是什么问题，所以我们在很多行业已经取得了突破，如高铁技术.5G技术.航天技术，超算技术.云计算技术.AI技术.盾构机.而且海上挖泥船还禁止出口，所以我们的光刻机技术也不会差太多，可能在可靠性上需要时间去优化，因为市场的巨大吸引力，尖端光刻机应该很快投入市场。
全球半导体前道光刻机长期由ASML、佳能、尼康三家公司所垄断，三家公司占据了99%的市场份额。ASML市场份额常年高达60%以上，呈现霸主垄断地位，ASML已经完全地垄断了超高端光刻机领域，而佳能则完全退出高端市场，凭借价格优势盘踞在中低端市场。
上海微电子（SMEE）成立于2002年，其主产品SSX600系列步进扫描投影光刻机满足90nm、110nm、280nm芯片前道光刻工艺的要求，可以用于8英尺、12英尺大规模工业生产。毫无疑问上海微电子早已经能够生产光刻机，相比较于1984年4月成立的ASML，上海微电子疑问是芯片制造光刻机领域的后起之秀，经过20余年的发展逐渐缩小了和光刻巨头之间的差距，上海微电子在全球后道封测光刻机领域高达40%的占有率。
光刻原理其实特别简单，就跟我们在沙滩上晒太阳一样，光线能直接照射到的地方皮肤就会呈现黝黑的颜色，而被遮挡的地方皮肤就会呈现白皙的颜色。早期的光刻机其实和照相机显影技术并无二致，所以也就能理解为什么做照相机的佳能和尼康为什么会闯入光刻机领域。
基于光刻机的原理很简单，早期的芯片工艺制程水平也并不高，所以我国大致是在1965年前后拥有光刻机。1445所在1***7年就研制成功了一台接触式光刻机GK-3。接触式光刻就是直接将掩膜直接贴到硅片上用灯光照射，这种工艺最难的地方在于要在底片上刻出1微米分辨率的线条，而光照并不是太大的难题。这么说想必大家要翘尾巴了，要知道西方在1***8年就已经推出了成熟的分布投影光刻机了。拜读过《朱煜：精密事业》就知道我们的半导体工业为什么会落后别人一大截，国情使然，这里就不再大篇幅陈述。
如今的半导体产业已经成为了一个全球性的巨大产业链条，我们已经完全有能力生产7nm甚至更低nm的芯片，关键在于我们的材料和设备受制于人，高端光刻设备对于光学技术和供应链要求极高，拥有极高的技术壁垒，是全球产业链整合出来的产品，比如ASML光刻机的光源来自美国、镜头来自德国、阀件来自法国，这些不是有钱就能买得到的，因为欧美国家对我们实施了技术封锁。
到此，以上就是小编对于科技研究项目推进情况的问题就介绍到这了，希望介绍关于科技研究项目推进情况的1点解答对大家有用。
